中央沟的识别
中央沟是外侧面额叶与顶叶的分界，从大脑半球内后上向外前下弯曲走行，逐渐变浅，终止于外侧裂上方，不与外侧裂相通。在顶部轴位层面，中央沟内侧与大脑纵裂相交，外侧直达脑表面，这是直接识别征象。
中央沟形态常呈W形或倒Q形，尤其在手运动区附近，称为W征或倒Q征。此外，中央沟前方的中央前回比后方的中央后回宽厚，称为宽带征或薄中央后回征，是重要的间接征象。
平行于大脑纵裂的额上沟与中央前沟形成L形或倒T字形，中央前沟后第一条平行的脑沟即为中央沟，此即L字或倒T字征。综合这些征象可准确识别中央沟。
额叶主要沟回
额上沟平行于大脑纵裂前后走行，在横断面半卵圆中心上方层面明显，分隔额上回和额中回。中央前沟内外走行，内侧与额上沟相交形成L形或倒T字形，后方为中央前回。
外侧沟是矢状位前后走行最明显的脑沟，上方为额叶，下方为颞叶。额下沟位于外侧沟上方并与之平行，分隔额中回和额下回。
内侧面扣带沟是额叶内侧面的下界，下方为扣带回，扣带沟向后上延续为扣带沟缘支，缘支位于中央沟后方，与大脑纵裂相交。中央旁小叶位于扣带沟缘支前方、中央旁沟后方，是中央前后回在内侧面的融合。
底面嗅沟分隔内侧的直回和外侧的眶回。
顶叶分界与沟回
顶叶内侧面以前方的中央沟、后方的顶枕沟和下方的顶下沟为界；外侧面以前方的中央沟、后方的顶枕沟与枕前切迹连线（虚拟）为界，下界为外侧沟至顶枕沟与枕前切迹连线中点的连线。
顶下沟位于扣带回后部上方，是顶叶内侧面前下方的脑沟，可从下往上在矢状位胼胝体后方寻找第一条和第二条脑沟。顶枕沟是内侧面恒定的脑沟，后上往前下分隔顶叶和枕叶。
中央后沟是中央沟后第一条平行的脑沟，位于中央后回后方。顶内沟分隔外下方的顶下小叶和内上方的顶上小叶，在轴位上呈3-5点或7-9点方向走行。
缘上回围绕外侧沟末端，角回围绕颞上沟末端，均属顶下小叶。内侧面楔前回位于扣带沟缘支后方、顶枕沟前方。
颞叶与枕叶沟回
颞叶上界为外侧沟，外侧面颞上沟和颞下沟分隔颞上回、颞中回和颞下回。颞下沟较短，位于颞上沟下方并与之平行，是颞中回和颞下回的分界。
内底面侧副沟呈横-斜-横走行，分隔海马旁回和枕颞内侧回；枕颞沟位于侧副沟外侧，分隔枕颞内侧回和枕颞外侧回。
枕叶位于顶叶和颞叶后方，外侧面以顶枕沟和枕前切迹连线与顶叶、颞叶分开，内侧面前方以顶枕沟与顶叶分开，与颞叶无天然分界。距状沟分隔前方的舌回和后上方的楔叶，舌回向前与颞叶延续。
岛叶及报告要点
岛叶位于脑深部，被额盖、顶盖、颞盖遮挡，在轴位上需透过岛盖观察。岛叶皮层深部依次为最外囊、屏状核、外囊、壳核等结构，识别时注意与基底节区分。
报告描述脑沟回时，应准确使用中央沟、外侧沟、顶枕沟等标志沟定位病灶，并注明所在脑叶及脑回，便于临床定位。
